マスクアライナ

半導体製造のフォトリソグラフィ工程において、ウェハー、ガラス基板に対してガラスマスクとワークをアライメントし、微細なマスクパターンを転写する装置です。片面、両面、完全自動型など、ご要望に応じた装置の開発を行います。